EQUIPMENTS

分析・物性評価 / Materials Characterization & Physical Properties

環境制御型走査型プローブ顕微鏡
Environment Control Scanning Probe Microscopy
(日立ハイテクサイエンス E-Sweep)

  • AFM, DFM, PM (位相測定), 電流測定, PFM, KFM, MFM, SNDM
  • 大気、真空、冷却加熱(-120〜300℃/RT〜1000℃)
  • 磁場印加

共焦点レーザー顕微鏡
Confocal Laser Microscopy
(オリンパスLEXT OLS4000)

  • 3D測定レーザー顕微鏡

走査型プローブ顕微鏡
Scanning Probe Microscopy
(日立ハイテクサイエンス AFM5100N)

走査型プローブ顕微鏡
Scanning Probe Microscopy
(OXFORD Instruments MFP-3D Origin)

顕微ラマン分光装置
Micro Raman Spectroscopy
(Horiba Jobin-Yvon  T64000)

  • 励起光源:Ar 514.5 nm
  • トリプルモノクロメーター
  • 測定波数範囲:5〜4000 cm-1
  • 冷却加熱(4K〜RT/RT〜1500℃), クライオスタット、加熱ステージ利用

波長可変顕微ラマン分光装置
Micro Raman Spectroscopy
(Horiba Jobin-Yvon  LabRAM HR-800)

  • 励起波長:325, 515, 532, 568, 633, 752 nm
  • シングルモノクロメーター + ノッチフィルター
  • 測定波数範囲:100〜4000 cm-1
  • 冷却加熱(4K〜RT/RT〜1500℃), クライオスタット、加熱ステージ利用

近接場分光システム
Near-Field Optical Spectroscopy
(Omicron TwinSNOM)

  • 高空間分解能(~ 20 nm)でのラマン、PL、反射測定

FT-IR
(日本分光FT/IR-4600)

  • 測定波数:350 – 7800 cm-1
  • 分解能:0.7 cm-1

熱重量示差熱同時測定装置
TG/DTA
(STA7200)

紫外可視分光光度計
UV-Visible Spectrometer
(日立ハイテクサイエンス U-3900)

紫外可視分光光度計
UV-Visible Spectrometer
(日立ハイテクサイエンス U-4100)

X線回折装置
X-Ray Diffractometer
(リガク 全自動多目的X線回折装置 SmartLab)

磁気光学分光装置
Magneto-Optical Spectroscopy
(ネオアーク BH-M800UV-KC-KF)

  • 測定波長範囲:200 ~ 900 nm
  • カー測定、ファラデー測定
  • 印加磁場:± 2 kOe
  • 冷却加熱(4K〜RT/RT〜800℃), クライオスタット、加熱ステージ利用

SHG 顕微鏡
SHG Microscopy
(Lambda Vision)

  • 励起波長:1064, 752 nm
  • 顕微SHG観察

磁場印加型低温プローバー
Low Temperature Prober System
(LakeShore  TTPX/TS)

  • 温度範囲:2 ~ 475 K
  • 垂直磁場: 2 T
  • 半導体パラメータアナライザー、誘電体評価システムとの接続により各種物性評価

環境制御型プローバー/グローブボックス
Environment Control Prober System
(共和理研  K-160MPH/MWH)

  • 温度範囲:室温 ~ 500℃
  • 雰囲気制御(湿度、ガス導入)
  • 半導体パラメータアナライザー、誘電体評価システムとの接続により各種物性評価

小型プローバー
Micro Prober System
(ハイソル HMP-400)

  • 半導体パラメータアナライザー、誘電体評価システム、マテリアルアナライザーと接続
  • fAレベルの微小電流測定、fFレベルの微小容量測定、40GHzまでのRF測定

4探針プローバー
Four Point Prober
(ハイソル SR-4)

  • KEITHLEY 2401型ソースメータと接続
  • シート抵抗値・体積抵抗率

誘電体評価システム(薄膜用)
(Keithley 4200 SCS + Agilent 4294A)

  • 周波数:40 Hz ~ 110 MHz

誘電体テストシステム(薄膜用)
(Keithley 4200 SCS + Agilent E4980A)

  • 測定周波数:20 Hz ~ 2 MHz

強誘電体評価システム(薄膜用)
Dielectric Test System
(Radiant Premier II)

  • 微小キャパシタンス測定
  • AFMとの接続によるナノ材料評価

強誘電体テストシステム(薄膜用)
Dielectric Test System
(東陽テクニカ FCE1A)

  • 測定周波数:20 Hz ~ 2 MHz

強誘電体テストシステム(バルク、高電圧用)
Ferroelectric Test System
(Radiant Precision LC + 高電圧アンプ)

  • 1kVまでの高電圧測定

誘電体テストシステム(バルク用
Ferroelectric Test System
(東陽テクニカ 1260A + 1296A)

  •  100 TΩ超のインピーダンス測定
  • 周波数:10 μHz〜10 MHz
  • 加熱(RT〜800℃)電気炉接続

RFインピーダンス/マテリアルアナライザー
RF Impedance/Material Analyzer
(Agilent E4991A)

  • 1kVまでの高電圧測定

電気化学測定システム
Potentiostats Electrochemistry System
(Keithley 2450-EC)

  •  100 TΩ超のインピーダンス測定
  • 周波数:10 μHz〜10 MHz
  • 加熱(RT〜800℃)電気炉接続

偏光顕微鏡
Polarized Optical Microscopy
(オリンパス BX51 + SONYミラーレス一眼)

蛍光顕微鏡
Fluorescence Microscopy
(オリンパス BX53 + ファイバー分光器、イメージングユニット)

  • 測定波長:250 ~ 850 nm
  • 顕微BL測定、蛍光イメージング

インピーダンスアナライザ
Impedance Analyzer
(Solartron ModuLab XM MTS)

高温サンプルホルダ
High temperature sample holder
(Probostat)

ゼータ電位・粒径・分子量測定システム 
Zeta-potential & Particle size Analyzer
(ELSZ-2000ZSC)

薄膜・デバイス作製 / Thin Films & Device Fabrications

LB膜作製装置
LB Trough
USI

LB膜作製装置
LB Trough
KSV NIMA Large LB

 

  • トラフ面積:580 ×145 mm2
  • 最大基板サイズ:106 × 106 mm2

電子ビーム真空蒸着装置
E-Beam Deposition System
(Sanyu SVC-700LEB)

  • 金属電極作製 (Au, Pt, Ti..)、多層製膜
  • 3連式EBガン+抵抗加熱
  • カーボン蒸着用フラッシュ電源

RFスパッター
RF Sputtering System
(Sanyu SVC-700RF)

  • 金属電極作製 (Au, Pt)
  • 酸化物薄膜、絶縁膜作製

LED微細加工装置
LED Optical Lithography

スピンコーター
Spin Coater

クイックコーター
Quick Coater
(SC-701SC-701MkⅡ/SC-701AT)

合成 / Synthesis

バキューム型グローブボックス
Vacuum Glovebox
(UNICO UN-1000L)

雰囲気制御管状炉
Environment Control Furnace

真空窒素ライン
Vacuum, N2 Gas Line

電気炉
Furnace

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